超纯水制备系统是一种专门为满足企业对水质极高纯净度需求而设计的高度精密水处理装置。在众多精密制造行业的产品生产过程中，即使是极微量的离子污染物或颗粒物，都会对产品的质量和性能产生严重影响，因此对水质的要求极为严苛，尤其是泛半导体行业，通常需要达到电阻率大于18 MΩ·cm的超纯水平。超纯水制备系统广泛应用于半导体、光伏、医疗、食品等各个领域。
预处理阶段：去除原水中的悬浮固体、颗粒物、有机物及微生物等杂质，常用设备有多介质过滤器、活性炭过滤器、精密过滤器等。
反渗透（RO）阶段：通过反渗透膜将大部分溶解性盐分、有机物和微生物等进一步去除，得到初级纯水。
离子交换（IX）阶段：采用阴阳离子交换树脂去除反渗透后的水中残留的离子污染物。
电去离子（EDI）阶段：这是一种连续电除盐技术，通过电场作用和离子交换树脂的作用，实现离子的高效去除，从而提高水质至更高纯度。
杀菌及有机物脱除（UV/TOC）：消毒/用于有效减少有机物（通常称为总有机碳，TOC）含量 。
气体脱除(MDG）：利用扩散的原理将液体中的气体，如二氧化碳、氧气、氨氮去除的膜分离产品。
抛光混床（MB）阶段：作为最终精处理步骤，混合型离子交换柱能有效去除痕量离子，保证出水达到超纯水标准。
终端过滤（UF/PES）：使用超滤或聚醚砜等微孔滤膜进一步过滤掉可能存在的细菌、病毒及胶体物质，确保最终水质符合半导体生产所需的标准。
通过以上一系列严谨且复杂的处理工艺，超纯水制备系统得以产出适用于各类企业精密制造流程所需的高品质超纯水。同时，此类系统需配备完善的水质监测系统，实时监控并调整水质参数，确保持续稳定地供应超纯水。
高纯度：能够满足企业生产过程中的对水质苛刻标准；
稳定性强：采用可靠的工艺设备和技术，能长时间持续保障稳定供应；
先进的处理技术：拥有强大的技术团队支持，融汇国内外的先进超纯水技术，协同创新，实现高效净化；
低能耗：优化的系统设计和节能型设备的选用，减少运行成本；
适应性好：根据不同企业的生产需求和水质条件进行灵活的调整和定制化服务，适应多种应用场景；
自动化程度高：具备完善的自动控制和监测系统，实现智能化运行。
